国内外关于ITO废靶材的资源化利用和无害化处置技术的相关研究较多，主要可分为湿法、火法以及火湿法联合三大类。湿法类主要的提取方式为盐酸浸出，浸出液经氧化法或使用铝粉、锌粉等分离铟锡后再置换得到粗铟，该方法的缺点是铟锡分离率低，氧化锡渣等中含铟约1%～2%，铟直收率﹤97%。
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ITO（氧化铟锡）靶材是溅射靶材中陶瓷靶材（化合物靶材）的一种，在显示靶材中占比将近50%。ITO靶材就是将氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型，再高温气氛烧结（1600度，通氧气烧结）形成的黑灰色陶瓷半导体。
2017年6月，工信部发布《重点新材料首批次应用示范指导目录（2017年版）》，提出了平板显示用ITO靶材、平板显示用高纯钼靶材等重点新材料的应用领域。伴随ITO技术和产能突破瓶颈，国产ITO靶材凭借成本和性价比优势将逐步占领市场。