它是一种紧凑且低成本的膜厚计，可以通过高精度光学干涉法轻松测量膜厚。

我们采用了一体式外壳，将必要的设备容纳在主体中，从而实现了稳定的数据采集。

支持从薄膜到厚膜的各种膜厚

使用反射光谱进行膜厚分析

紧凑且价格低廉，实现了非接触，无破坏的高精度测量

简单的条件设置和测量操作！任何人都可以轻松测量薄膜厚度

使用峰谷法，频率分析法，非线性小二乘法，优化法等，可以进行多种膜厚测量。

通过非线性小二乘法的膜厚分析算法，可以进行光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）。

测量项目

反射率测量

膜厚分析（10层）

光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）

测量目标

功能膜，塑料

透明导电膜（ITO，银纳米线），相位差膜，偏光膜，AR膜，PET，PEN，TAC，PP，PC，PE，PVA，胶粘剂，胶粘剂，保护膜，硬质大衣，防指纹等

半导体

化合物半导体，硅，氧化膜，氮化膜，抗蚀剂，SiC，GaAs，GaN，InP，InGaAs，SOI，蓝宝石等。

表面处理

DLC涂层，防锈剂，防雾剂等

光学材料

滤镜，增透膜等

FPD

LCD（CF，ITO，LC，PI），OLED（有机膜，密封剂）等

其他

硬盘，磁带，建筑材料等

技术指标

类型薄膜类型标准型测量波长范围300-800纳米450-780纳米测量膜厚范围

（SiO2换算）3纳米至35微米10nm-35μm光斑直径φ3mm/φ1.2mm样本量φ200×5（高）mm测量时间在0.1-10秒内电源供应AC100V±10％300VA尺寸，重量280（宽）x 570（深）x 350（高）mm，24公斤其他参考板，配方创建服务